鍍膜石英片磁控濺射膜特性！

    好處：靶材顆粒能量高(比熱蒸發高1個數量級)，制備的膜層更加致密，與石英片結合度更高：

    通常備有輔助離子源，可用于清洗石英片，清洗效果好；3。制備熔點高的材料；

    制作合金薄膜，可保證膜層的材料比例與靶材相同；5.由于裝有中和器，還可用于制備絕緣膜層。

    缺陷：一般鍍膜速度慢，每秒幾十埃；

    經常更換離子源和中和燈絲的燈絲；

    不宜制備大面積的薄膜；

    在靶材上使用時的注意事項：靶材外形尺寸應符合機床要求；

    靶的外觀、內部清潔程度都要高，是在潔凈室內加工而成；3.靶材的質量可以按合同要求定制(高純度99.99%.高密度.低氣體含量，大小(銀靶大約127×178×7mm，重量1.66Kg)，無裂紋，無孔洞);4.靶材的致密度要一致(可以在顯微鏡下觀察到);5.靶材在使用中要記錄該工序的各種數據，以觀察其變化和缺口；6.用銀靶15000WH、鉻靶25000WH時需更換新靶材；7.靶材的更換應嚴格按照設備中的操作工藝進行；8.靶材使用后稱重量(銀靶材約1.25~1.3Kg)返回原供貨商，處理后再用，來回循環。

    以上就是小編給大家講的鍍膜石英片磁控濺射膜的特點！簡述大家可以了解看看，內容提供參考，需要咨詢的可以與我們生產廠家聯系。